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工業RO純水設備 產品類別:純凈水設備 上架時間:2018-06-25 瀏覽次數: 點擊咨詢
產品詳情

         一、2T/H反滲透純水設備概述:

工業純水設備主要是用于工業生產用水的純水制取裝置。工業純水設備包括反滲透設備、離子交換設備、EDI高純水設備,用在不同的行業其采用的過濾方法不同,工藝流程也不一樣。工業純水機可以用于:飲用水、瓶裝水、食品工業用水、半導體工業、精細化工、光學工業用水、電鍍用水、鋁氧化用水、化妝品護膚品生產用水、洗手液洗衣液生產用去離子水、洗洗潔精等洗滌劑工業用DI去離子水、醫藥用水、透析醫療用水、代替各類蒸餾水及超純水供水等

二、2T/H反滲透純水設備在工業生產中的應用:

純水在電子工業尤其是電子元器件生產中的重要作用日益突出,純水水質已成為影響電子元器件產品質量、生產成品合格率及生產成本的重要因素之一,水質要求也越來越高。在電子元器件生產中,高純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料,不同的電子元器件生產中純水的用途不同,因此對水質的要求也不同。

在電解電容器生產中,鋁箔及工作件的清洗需用純水,如水中含有氯離子,電容器就會漏電。在電子管生產中,電子管陰極涂敷碳酸鹽,如其中混入雜質,就會影響電子的發射,進而影響電子管的放大性能及壽命,因此其配液要使用純水。在顯像管和陰極射線管生產中,其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質,是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成,其配制需用純水,如純水中含銅在8ppb以上,就會引起發光變色;含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃光跳躍;含有機物膠體、微粒、細菌等,就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力,并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產的12個工序中,玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水,每生產一個顯像管需用純水80kg。

液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液,如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質,就會使液晶顯示電路發生故障,影響液晶屏質量,導致廢、次品。顯像管、液晶顯示器生產對純水水質的要求見表1。在晶體管、集成電路生產中,純水主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制,硅片氧化的水汽源,部分設備的冷卻水,配制電鍍液等。集成電路生產過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片,水質的好壞與集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。

    水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良,重金屬(Au、Ag、Cu等)會使PN結耐壓降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化,水中細菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會使P型硅片上的局部區域變為N型硅而導致器件性能變壞,水中的顆粒(包括細菌)如吸附在硅片表面,就會引起電路短路或特性變差。

 

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